[國內]甄選「InterMag 2011, Taipei 」LOGO (97/2/29)

目  的

本活動旨在透過公開比賽的形式；徵求台北於2011年接辦 IEEE Magnetic Society 的旗艦會議『InterMag2011, Taipei』LOGO圖像標誌；以利本會議相關活動推廣。

 
甄選日期

即日起至97年 2月29日止。

  
背景說明

國際電子與電機協會(IEEE) 磁性分會每年舉辦一次全球磁性大會，每六年才可能進入亞洲一次，以前只在日本與韓國舉辦過。2011年之 InterMag在激烈競爭後終於選定台北為其會址。預估屆時將有2000人以上之國際學者來台，目前已訂於2011年4月26日至4月 29日於台北市國際會議中心舉辦。

 
設計要求

1. 此logo設計能夠強調會議主辦地點為台灣(台北) ，或具相關代表性。
2. 能夠利用「磁性」相關元素突顯會議主題，例如磁滯曲線、磁力線等。
3. logo圖案中可包含InterMag2011 或Taiwan/Taipei 英文字樣；冷暖色調皆可，顏色使用以不超過四種為原則。創新、易懂、並兼具藝術美感、國際觀；並可在多種媒體上推廣使用（網路、DM、信函、信封、旗幟、手提袋等）。
4. 可參考以往年度各地主辦的logo式樣：  http://www.intermagconference.com
   

作品規格

1. 參選作品請一律以 lllustrator 或 CorelDraw 等向量繪圖軟體繪製標誌，請將作品印製於 A4 直式紙張，並裱貼於 A3 之黑色裱板上，於作品上標註標準色樣 (CMYK)，報名作品投稿需包括圖案設計圖1份、報名表 1 份 。
2. 創意 logo 設計需考慮便於放大、縮小，應用於各種材質宣導文宣或製品之印製、製作，並能明顯識別。

評選方式

徵選評審作業，採初選、決選方式進行，由台灣磁性技術協會理事會共同以多數決評定獲勝作品；將於97年3月中旬將獲獎名單公布於本活動專屬網站及 IEEE Magnetic Society Taiwan Chapter 網頁。

 
獎   勵

最終採用作品獎金五萬元正。

 
評分標準

• 設計理念　　　　40％
• 創意及整體造形　30％
• 美感或美觀性　　20％
• 應用性　　　　　10％

相關規定

1. 作品無論採用與否均不予退件，如有需要由作者事先自行備份留存。
2. 參選作品應為未曾發表之作品，並不得抄襲、模仿、或剽竊他人之作品。若有涉及相關著作權法律責任及侵害第三人權利時，悉由作品提供者自行負法律上責任，概與主辦單位無關。
3. 若經發現有上述情形，除取消其得獎資格，追繳回獎金外，並由次優作品（依所得序分排序）遞補。
4. 主辦單位對入選作品保有修改權，作者不得異議；主辦單位擁有該作品全部智慧財產權，並由作者授權予主辦單位使用且不行使著作人格權。但主辦單位同意作品作者以複製方式保留作品。
5. 入選作品於頒獎前，作者應與主辦單位依著作權法規定訂立著作財產權讓與契約。
6. 得獎者應依中華民國稅法規定負擔稅金。

投稿方式

1. 多人共同創作時，由創作人共同推薦 1 人以具名方式報名。
2. 請至活動網站下載並填寫報名表 。
3. 作品請寄至106台北市大安區羅斯福路四段1號台大物理新館R113  台灣磁性技術協會收  並註明「徵選InterMag2011 logo」。

主辦單位

IEEE Magnetic Society Taiwan Chapter，台灣磁性技術協會

協辦單位

經濟部商業司，中華民國對外貿易發展協會 (TAITRA)

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